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电镀铜工艺与化学原理,电镀的原理

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    电镀铜工艺与化学原理:镀铜是在电镀工业中使用最广泛的一种预镀层,包括锡焊件、铅锡合金、锌压铸件在镀镍、金、银之前都要镀铜,用于改善镀层结合力,今天就从工艺与化学原理上来说电镀铜
    一、电镀铜工艺流程
 
    电镀铜工艺过程:预镀镍→清洗→镀铜→清洗→出光→清洗→钝化或氧化→清洗→下挂具→清除保护物→除氢→检验→油封属
 
    使用最广泛的一种预镀层。锡焊件、铅锡合金、知锌压铸件在镀镍、金、银之前都要镀铜,用于改善镀层结合力。铜镀层是重要的防护装饰性镀层铜/镍/铬体系的组成部分,柔韧而孔隙率低的铜镀层,对于提高镀层间的结合力和耐蚀性起重要作用。铜镀层还用于局部的防渗碳、印制板孔金属化,并作为印刷辊的表面层。经化学处理后的彩色铜层,涂上有机膜,还可用于装饰。目前使用最多的镀铜溶液是氰化物镀液、硫酸盐镀液和焦磷酸盐镀液。
 
    二、电镀铜化学原理
 
    1,电镀铜是用于铸模,镀镍来,镀铬,镀银和镀金的打底,修复磨损部分,防止局部渗碳和提高导电性。电镀铜中的铜具有良好的导电性和机械性能,容易活化,与其它金属镀层形成良好的的金属—金属间键合,从而就能获得镀层间良好的结合力。
 
    2.电镀铜工艺就是指在化学沉铜层源上通过电解方法沉积金属铜,以提供足够的导电性/厚度及防止导电电路出现热和机械缺陷。
 
    3.作用作为孔的zhidao化学沉铜层的加厚层,通过全板镀铜达到厚度5-8微米,称为加厚铜。作为图形电镀锡或镍的底层,其厚度可达20-25微米,称为图形镀铜。
 
    三、电镀铜电镀方式
 
    用于铸模,镀镍,镀铬,镀银和道镀金的打底,修复磨损部分内,防止局部渗碳和提高导电性。分为碱性镀铜和酸性镀铜二法。通常为了获得较薄的细致光滑的铜镀层,将表面除去油锈的钢铁等制件作阴极,纯铜板作阳极,挂于含有氰化亚铜、氰化钠和碳酸钠等成分的碱性电镀液中,进行碱性(氰化物)镀铜。为了获得较厚的铜镀层,必须先将镀件进行碱性镀铜,再置于含有硫酸容铜、硫酸镍和硫酸等成分的电解液中,进行酸性镀铜。此外,还有焦磷酸盐、酒石酸盐、乙二胺等配制的无氰电解液。焦磷酸盐电解液已被广泛采用。
 
    电镀铜工艺与化学原理以电镀铜工艺流程,电镀铜化学原理还有电镀铜电镀方式今天已经介绍过这三个了,然后镀铜的方式分类有许多,下次还会发类似的文章供大家学习。

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