光学镀膜原理，光学的零件表面在镀膜后，光在膜层的层上多次反射多次透射，形成多样光束干涉，控制膜层折射率以及厚度，可以得到很多不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本的原理。

    一、光学镀膜应用

 

    光的干涉在薄膜光学广泛被各领域应用。光学薄膜技术的一般方法，是借助真空溅射的方式在玻璃的基板上涂镀薄膜的，通常用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需求。为了除去光学零件表面的反射损耗，提高产品成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。随着激光技术的发展，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。为各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。

 

    二、光学镀膜几种材料：

 

    ①　氟化镁

 

    材料特点：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。

 

    ②　二氧化硅

 

    材料特点：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

 

    ③　氧化锆

 

    材料特点白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。

 

    光学镀膜原理，今天我们通过光学镀膜应用光学镀膜几种材料：包括氟化镁，二氧化硅，氧化锆来介绍了一次，下次我再写文把整个光学镀膜的流程写下来，这样会详细些，上次我也有类似的文章，大家可以找出来看看。